カシオ計算機 TFT-LCD技術でHannstarと提携

　カシオ計算機は、HannStar Display(台湾)へHAST(Hyper Amorphous Silicon TFT)技術を供与するとともに、HannStarが生産したHAST-LCDを優先購入するという契約を交わした。

　カシオはデジタルカメラ用TFT-LCDでシェア4割を誇るが、生産拠点である高知カシオはフル稼働状態が続いており、前工程の生産能力拡大が急務となっていた。一方、HannStarはこれまで大型TFT-LCDをメインに事業展開してきたが、以前から中小型TFT-LCD市場への本格参入を計画していた。今回の提携は両社の思惑が一致したもの。

　カシオはHannStarが生産したTFTアレイ基板を購入し、自らモジュールにアッセンブリして携帯電話やデジタルカメラ向けとして販売する。HannStarは楊梅にある既存の前工程生産ライン(550×650�o)を改造し、06年度上期からHAST-LCDを量産する。

ローム QVGA携帯電話用1チップドライバICを開発

　ロームは、ハイエンド携帯電話向けTFT-LCD用ドライバIC「BU66R01CH」を開発した。QVGA、1677万色表示対応で、ソースドライバ、ゲートドライバ、電源回路を1チップ化した。

　従来のゲートドライバ・ソースドライバの2チップ構成に比べモジュールの部品点数を削減。また、独自の駆動方式を採用し、消費電力を低減した。さらに、RGBガンマ補正機能を内蔵し、RGBそれぞれの階調をきめ細かく調整できるようにした。

　くわえて、従来のパラレルインターフェース、シリアルインターフェースに加え、高速差動シリアル伝送インターフェース「MSDL2」に対応。MSDL(Mobile Shrink Data Link)は同社が独自開発したLCDモジュール・インターフェース用高速差動シリアル伝送技術で、すでにMSDLトランシーバとして第3世代携帯電話向けに累計700万個以上を出荷済み。MSDL2を内蔵することにより、従来のトランシーバ構成に比べ実装面積をさらに削減できる。

日本電気硝子 CRT用ガラスの国内生産を停止

　日本電気硝子は、9月末でCRT用ガラスの国内生産を停止する。

　同社は近年、CRTテレビ・モニターからFPDテレビ・モニターへの移行にともない、順次、CRT用ガラス生産設備を停止し、FPD用ガラスへリソースをシフトしてきた。しかし、CRT用ガラスの国内需要は昨年で事実上消滅し、海外市場でもCRTの需要が落ち込んでいた。このため、CRT用ガラスの国内生産を停止し、FPD用ガラス事業にいっそう注力することにしたもの。

　なお、グループのCRT用ガラス事業についてはアジア地域を中心とする生産体制に集約していく計画だ。

東京応化 中国で半導体・LCD用材料の商業生産を開始

　東京応化工業と長春石油化學股有限公司(長春石化社)の合弁会社「長春応化(常熟)有限公司(Chang Chun TOK)」は、江蘇省常熟経済開発区に建設した新工場で半導体・LCD用材料の商業生産を開始した。

　新工場は敷地面積約1万1800m2で、延床面積は約4700m2。投資額は約10億円で、従業員14名でスタート。フォトレジストをはじめとする高純度化学薬品を製造し、中国国内向けに販売する。売上高は08年で10億円を見込んでいる。

ウシオ電機 光照射実験設備「オプティカル・ラボ」を開設

　ウシオ電機は、播磨事業所(兵庫県姫路市)内に光照射実験設備「オプティカル・ラボ」を開設した。シリコンウェハー、ガラス、プラスティックフィルムといった各種基板へ光照射する実験機で、オープンラボとして9月から運用を開始する予定。

　UV光源、IR光源、ガスチャンバを備えたマニュアル式枚葉処理設備で、最大φ300�o基板に対応できる。加熱源には高速昇降温・非接触の赤外線ハロゲンランプを採用。一方、UV照射源には超高圧UVランプ、DeepUVランプ、キセノンランプを揃え、さまざまな波長域の紫外線照射をテストすることができる。また、これらのUVランプやハロゲンランプは基板の上下任意の位置に配置でき、上面にUVランプ、仮面にハロゲンランプを設置して同時照射することもできる。チャンバ内圧力は常圧から高中真空領域まで対応。N2、Ar、O2といったガス雰囲気中でも処理可能となっている。

　対象は半導体、FPD、MEMS、ストレージメディアなどで、実験内容や目的を告知すれば広く利用できるという。

キヤノン アネルバなどNECの子会社2社を買収

　キヤノンは、NECの子会社2社を買収すると発表した。NECマシナリーを株式公開買付けで子会社化する一方、NECからアネルバの株式を取得する。両社の保有技術を生かし、デバイスのコストダウンを推進する。

　NECマシナリーについては自動化機器の設計・製作で高い技術を保有していると評価。NECは保有する株式312万株(応募可能な全株)の公開買付けに応募する。また、第2位株主の関西日本電気も保有株112万株の公開買付けに応じる。

　一方、アネルバは高真空技術をベースにした薄膜形成技術を保有しており、新規事業であるSEDの製造装置を内製化する狙い。こちらはNECから9月30日付で全株式3600万株を取得する。

　なお、両社はキヤノンの子会社になった後も従来の筆頭株主であるNECと引き続き取り引きを継続する。

カシオマイクロニクス 世界初の超高精細両面FPC基板を開発

　カシオマイクロニクスは、世界初の超高精細両面フレキシブル基板(FPC)を開発した。L&S＝20μm/20μmで、基板サイズを従来の1/4にコンパクト化することができる。

　スルーホール径は20μm、配線銅厚みは10μm。超微細孔加工技術、微細孔をフラットにフィリングする銅メッキ技術、表裏パターンの高精度アライメント技術を開発し超高精細化した。

　この両面FPCは携帯電話機以外にもプリンタヘッド、HDDや半導体パッケージのインターポーザーとしての利用も見込まれる。07年4月より本格量産を開始する。

昭和電工 高機能イソシアネ−トモノマーを販売

　昭和電工は、フォトレジストなどに用いられる高機能イソシアネ−トモノマー“カレンズBEI(化学名：1,1-(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート”を開発、今月から販売を開始する。

　イソシアネートモノマーは、各種物質と容易に結合するイソシアネート基を利用しておもにポリマーに添加・反応させることにより、光硬化性を付与する。今回、一つのイソシアネート基に対して二つのアクリル基を持つカレンズBEIを開発。重合性を有するアクリル基を同一分子内に二つ持つことにより、従来品(カレンズAOI)に比べ2倍という光硬化性を付与した。また、ガラス、金属、PETといった基板に対する密着強度も従来比2倍に向上。硬化収縮も大幅に減少し、基板の反りも発生しないという。

日新イオン機器 滋賀事業所を開設しFPD装置事業部門を移転

　日新イオン機器は滋賀事業所(滋賀県甲賀市)の第1期工事が完成、9月5日から操業を開始すると発表した。

　新事業所の開設にともない、FPD製造装置事業部門の設計、製造、保守機能を移転するとともに、プラズマ技術開発センターを開設する。

JSR 韓国のFPD材料工場の2期工事が完了

　JSRは、韓国・梧倉(オチャン)科学産業団地に建設していたJSRマイクロコリアの第2期工事が完了したと発表した。

　当初計画を2か月前倒したもので、8月から従来のLCD用カラーレジストに加え、LCD用保護膜材料、感光性スペーサ材料の生産を開始した。2期の投資額は約20億円。

コニカミノルタセンシング 色分布・色ムラ測定用2次元色彩輝度計を発売

　コニカミノルタセンシングは、ディスプレイやカーナビゲーション・インパネなどの車載機器表示部の色分布・色ムラを測定する「2次元色彩輝度計CA-2000」を発売する。標準価格は441万円。

　CA-2000は、最大測定点約1000×1000という高精細で光源の色分布、色ムラ、色度、輝度が測定できる。測定データをランクごとに色分けすることによって、光源の色分布、色ムラ、色度、輝度を2次元画像で表すことができる。また、3種類の交換レンズと接写リングにより、標準、広角、望遠、マクロ1、マクロ2の5種類の画角に切り替え可能。このため、PDPやLCDといった大型ディスプレイから、カーナビやインパネ、小型LCDなどの微小エリアの測定まで、測定対象物の大きさに合わせた測定が可能となっている。

キヤノン SEDの新研究・開発拠点を開設

　キヤノンは、神奈川県平塚市にSED(Surface-conduction Electron-emitter Display)の新たな研究・開発拠点を設ける。

　平塚事業所近くの西松建設・平塚製作所の敷地2万9826m2を譲り受け、地上4階建ての研究開発棟2棟を中心に延床面積約4万5600m2の拠点を建設する。投資額は約208億円で、06年7月末に運用を開始する。従業員数は約150人に達する見通し。

　新拠点では、今後の量産に向け研究開発力・生産技術力を強化。平塚事業所における基礎技術の研究開発、SED�鰍ﾉよるパネルの生産と合わせ、近接する2拠点でSEDの実用化体制を構築する。

　なお、新拠点の開設に当たって同社は神奈川県に対し産業集積促進方策の施設整備等助成金助成事業認定に対する申請を行った。

PVIとCMO 中国での投資を拡大

　Prime View International(PVI)とChi-Mei Optoelectronics(CMO)は、台湾政府の中国大陸投資審査委員会にそれぞれ4000万USドル、3000万USドルの投資申請を行った。投資はTFT-LCDモジュール工場の拡張に使われる予定。

住友化学 韓国にMMAモノマー製造設備を新設

　住友化学は、関係会社の韓国LGMMAが麗水(ヨース)工場にメチルメタクリレート(MMA)モノマー製造設備を新設すると発表した。年産能力は7万6000トンで、08年4月に稼働を開始する予定。LCDバックライトの導光板向けを中心に供給する。

　新プラントが完成すると、LGMMAの年産能力は既存の第1、第2プラントと合わせ計17万6000トンになる。

東光 高出力・高電圧のモニタバックライト用インバータトランスを発売

　東光は、高出力・高電圧のモニターバックライト用インバータトランス「CLT4123タイプ」の販売を開始した。

　独自の縦型構造、高Bs(飽和磁束密度)、低損失新コア材を採用し、低発熱、高効率を実現。14型以上のデスクトップモニター、車載用モニター、アミューズメント機器向けとしての需要を見込んでいる。

凸版印刷 三重県久居市に第8世代CF工場を建設
三重工場には第6世代の新ラインを導入

　凸版印刷は、LCD用カラーフィルタ(CF)の生産能力を大幅増強する。三重県久居市の工業団地「ニューファクトリーひさい」に第8世代(2160×2400mm)対応の新工場を建設。また、三重工場に第6世代(1500×1800mm)対応の新ラインを導入する。

　第8世代対応工場は敷地面積約16万1300m2で、まずは投入能力1万枚/月のラインを導入し、06年10月に立ち上げる。そして、需要に応じて投入能力をマックス4万5000枚/月にまで引き上げる。総投資額は約500億円。

　他方、三重工場には約250億円を投じ、マザーガラス投入能力を既存ラインと合わせ7万5000枚/月に高める。稼働は06年6月を予定している。

　これらの新ラインが完成すると、凸版グループ全体の月産能力は14型換算で1200万枚以上になる。

クラレ 岡山の偏光板用ポバールフィルム工場が稼働

　クラレは、子会社のクラレ玉島(岡山県倉敷市)に建設していたLCD偏光フィルム用ポバール(ポリビニルアルコール)フィルム生産設備が稼働したと発表した。

　運転を開始したのは第1ラインで、年産能力は1500万m2。また、年産1500万m2の第2ラインも完成、近く試運転を開始する。投資額は第1、2ライン合わせ約55億円。

　この結果、既存のクラレ西条と合わせた年産能力は計6100万m2にアップする。

神戸製鋼 高強度・短波長紫外線ランプ光測定用ダイヤモンドセンサーを開発

　神戸製鋼所は、従来の100倍以上という世界最長寿命の紫外光強度測定用センサーを開発した。高強度・短波長の紫外線が照射されているかどうかを確認するセンサーで、高強度・短波長紫外線ランプの寿命と同じ約2000時間における感度変化は5％だという。

　周知のように、LCDやPDPなどのFPD製造工程ではキセノンエキシマランプや低圧水銀ランプから高強度かつ短波長の紫外線を照射して基板表面に付着した有機物を分解・洗浄する。この紫外線ランプからの光強度を測定するのがセンサーだが、従来の蛍光ガラスやシリコンを用いたセンサーでは材料が変質劣化して測定不良を起こすなど、長時間の連続測定には不向きだった。

　今回のセンサーは、短波長紫外線に対して安定した材料であるダイヤモンドと白金(電極)からなり、紫外線照射時のダイヤモンド膜中の通電量変化によって紫外線の強度を測定する。また、センサーの不安定化要因となる湿度や紫外線によって発生するオゾンの影響を防ぐため、センサー構造を改良した。この結果、紫外線ランプと同等の寿命を実現。キセノンエキシマランプや低圧水銀ランプが使われる高強度紫外線照射装置への組込み、ランプ光強度の連続モニタリングが可能になる。

　すでに岩崎電気の紫外線照度計に採用されているほか、数社で紫外線照度計や高強度・短波長紫外線照射装置に組込むための評価を受けている。なお、FPDガラス基板の洗浄以外では高分子フィルム・樹脂の表面改質、超純水製造装置・薬液管理装置、さらに将来的には半導体用露光装置に用いられるArFレーザなどの積算光量モニターや極短波長紫外光源向けへの展開も考えている。

アルバック 台湾にLCD装置関連子会社2社を設立

　アルバックは、台湾における事業を拡大するため、台湾政府と投資提携の覚書を締結した。台南科学工業園区内に大型マザーガラス対応TFT-LCD製造装置の生産子会社を設立するとともに、隣接地に部品製作や部品表面処理などのフィールドサポートのカスタマーサポート会社を設立する。

　06年1月に製造装置会社「アルバック台湾光電(台湾優貝克光電股有限公司)」を設立する。資本金は約15億円で、アルバックが25％、アルバック九州が50％、アルバック台湾が25％を出資する。董事長にはアルバック九州社長の藤岡俊昭氏が就任。約10億円を投じて約6700坪の敷地にTFT-LCD製造装置組立工場を建設する。稼働は07年1月の予定。

　一方、カスタマーサポート会社は「超浄科技(超浄科技股有限公司)」で、資本金10億円で06年1月に設立する。出資比率はアルバックマテリアルが20％、アルバックテクノが20％、アルバック台湾が60％。董事長にはアルバック台湾執行長の陳宗欣氏が就任する。工場は敷地面積約3000 坪で、真空装置ユニット・部品の製造、部品洗浄・表面処理、フィールドサービスを行う。投資額は約8億円。

NEC液晶テクノロジー 外光下でもクリア表示可能な12.1型TFT-LCDを製品化

　NEC液晶テクノロジーは、屋外や直射日光の当たる室内など強い外光下でも鮮やかなカラー表示が実現できるSVGA対応12.1型TFT-LCD「NL8060BC31-32」を製品化する。サンプル価格は6万円。

　4月に製品化した5.5型TFT-LCDに採用したST-NLT(Super-Transmissive Natural Light TFT)技術を採用。400cd/m2の高輝度と600:1の高コントラストを実現するとともに、外光反射を大幅に抑制した。また、−10〜＋70℃という広い温度範囲で表示を保証。このため、自動販売機、自動発券機、KIOSK端末に最適としている。

凸版印刷 PDP用新型EMIメッシュを開発

　凸版印刷は、PDPの前面フィルター用新型電磁波シールド(EMI)メッシュを開発した。10月から量産する予定。

　従来のEMIメッシュは、光学PETフィルムに黒化処理済銅箔をラミネートし、同社がウェットエッチング加工をしてメッシュパターンを形成してきた。今回の新型EMIメッシュは、同社が銅箔付きPETフィルムをエッチングおよび黒化処理を行う。パターンの側面も黒化でき、横方向から見た場合の色の変化を抑制できる。また、10％以下という低ヘイズ(くもり)を実現した。

　この結果、接着面を従来と反対にすることができ、PDPにPETフィルムを直接貼り付けることが可能になる。このため、ベースサブストレートが不要になるほか、ベースガラス基板による二重映りがなくなる。

東レフィルム加工 2層型フレキフィルム設備を増強

　東レフィルム加工は、高密度電子回路用の電解メッキ法2層型フレキシブル基板フィルム“メタロイヤル”の生産能力を増強する。来年4月までに2系列を増設し、年産能力を計120万m2に引き上げる。

　メタロイヤルは、ポリイミドフィルムの表面に電解メッキ法で厚さ2〜18μmの銅メッキ加工した2層型フレキシブル基板フィルム。現在、福島工場(福島県鏡石町)で年末の量産開始に向け2系列(4、5号機)を増設しているが、予想以上にニーズが高いため、新たに2系列(6、7号機)を増設する。増設する設備には耐屈曲性、耐金メッキ性、耐密着性などを高めるほか、今後進展するファインピッチ化に対応するため異物や表面突起の低減技術を盛り込む。

SEAJ 08年度までのLCD製造装置需要予測を発表
05年度は04年度の反動があるが、06年度からは再び2桁成長に

　日本半導体製造装置協会(SEAJ)は、08年度までの半導体・液晶パネル製造装置需要予測を発表した。

　それによると、05年度の日本製装置販売高は前回予想(04年11月)よりも上方修正し、史上最高を記録した04年度に比べ11％減にとどまるとしている。そして、06年度からは再び2桁成長を果たす見込み。