■低温poly-Si TFT-LCDの構造
�@シングルドレイン構造
�Aデュアルゲート構造
�BLDD構造
�CGOLDD構造
�DCLDD構造

■3D化技術

■低温とは？！(LTPSの課題)

■結晶化プロセス

■低温poly-Si TFTアレイ製造工程
トップゲート構造
�@シングルドレイン(SD)タイプ
�ALDD構造
�BGOLDD構造
・・・・poly-Si膜形成プロセス
・・・・TFTエリア形成プロセス
・・・・ゲート電極形成プロセス
・・・・キャパシタ電極形成プロセス
・・・・P-TFTイオン注入プロセス
・・・・N-TFTイオン注入プロセス
・・・・データ線形成プロセス
・・・・コンタクトホール形成プロセス
・・・・パッシベーション膜形成プロセス
・・・・水素化処理
・・・・平坦化プロセス
・・・・コンタクトホール形成プロセス
・・・・画素電極形成プロセス

■カラーフィルタ製造工程
・・・・IPSモード用カラーフィルタ
・・・・VA/TNモード用カラーフィルタ
・・・・BM形成
・・・・RGB着色層パターニング
・・・・フォトリソスペーサー形成

■液晶セル工程
・・・・ポリイミド塗布・ベーク
・・・・ラビング
・・・・シール剤塗布
・・・・スクライブ・ブレイク
・・・・液晶滴下、注入
　　・・・・セル薄型化

■モジュール組み立て工程
・・・・ドライバIC接続
・・・・ACF接続
・・・・バックライトの構造

(すべての工程に使用される材料、装置も詳細に解説)

▲トランジスタ構造

▲プロセスフローサンプル�@(イオンドーピングプロセス)

▲プロセスフローサンプル�A(a-Siのpoly-Si化法)

▲3D化方式

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CD-ROM：絵で見る低温poly-Si TFT-LCD製造プロセス
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