絵で見るフィールドエミッションランプ製造プロセス2017年版
次々世代照明デバイスの製造プロセスCD-ROMが登場!!


★これさえあればフィールドエミッションランプ(FEL)の製造プロセスがわかる
★FELの存在意義、デバイスの分類、構造を網羅
★基本プロセスから次世代プロセスまでをカバー
★CNT(カーボンナノチューブ)、カーボンナノウォール、BSD、ウィスカーなど各種エミッタ作製フローを完全図解

★デバイスの構造図、プロセスフロー図はすべて3D化!!
ボリュームはブラウザページに換算すると計27(A4用紙換算で90頁相当)
★プロセスフロー図は約125


ファイルはインターネットエクスプローラーなどのブラウザ形式なのでどんなPCでも見やすい
トップページから各論へ自在にアクセス可能


MAIN CONTENT


■FELの存在意義
■FELの分類
■FELの構造(ダイオード構造とトライオード構造)
■FELとFEDの違いとその設計コンセプト

■製造プロセス総論
  ダイオード構造FELの製造フロー
  トライオード構造FELの製造フロー

■製造プロセス各論
  ●アノード形成プロセス
  ●蛍光体層形成プロセス
  ●Alバック形成プロセス
  ●スペーサー形成プロセス
  ●シール層形成プロセス
  ●カソード形成プロセス
  ●エミッタの構造と製造プロセス
   SWNT(シングルウォールナノチューブ)エミッタ
   MWNT(マルチウォールナノチューブ)エミッタ
   メタル内包ナノカーボンエミッタ
   カーボンナノコイルエミッタ
   カーボンナノツイストエミッタ
   カップスタック型CNTエミッタ
   カーボンナノウォール(CNW)エミッタ
   ナノダイヤモンドエミッタ
   ウィスカーエミッタ
   BSD(Ballistic electron Surface emitting Display)
   BLD(Ballistic Lighting Display)
   エレクトライドセラミックスエミッタ
   FEED(Ferroelectric Electron Emitter Device)
  ●メッシュグリッド実装プロセス
  ●両面基板ベーキング&脱ガス処理プロセス
  ●貼り合わせ、封着・真空排気、ゲッター活性化プロセス


▲プロセスフローサンプルB(チップレス封止プロセス)


▲プロセスフローサンプル@(ナノカーボンエミッタの活性化方法)


▲プロセスフローサンプルA(CNTエミッタ成長方法)


▲プロセスフローサンプルC(メッシュグリッド実装プロセス)


E Expressならではの完全オリジナルCD-ROM

CD-ROM
発行:2017年1月12日
定価:18,000円(消費税込み)
販売元:イー・エクスプレス
〒270-1326 千葉県印西市木下725-146   TEL: 090-4203-4633(担当:亀矢)

ご注文は以下の項目を記入してinfo@e-express.co.jpまで送信してください。

CD-ROM:絵で見るフィールドエミッションランプ製造プロセス
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※商品をご確認の上、銀行振込にて代金をご入金下さい。

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Manufacturing process of LTPS-TFT-LCD Manufacturing process of oxide-TFT-LCD
Manufacturing process of a-Si TFT-LCD Manufacturing process of oxide-TFT
Manufacturing process of OLED Manufacturing process of OLED lighting device
Manufacturing process of organic film solar cell Manufacturing process of E-paper display
Manufacturing process of FEL Manufacturing process of organic-TFT

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